メモリ設計技術

最先端のメモリ設計技術とリソグラフィー技術で、高機能・高性能メモリ製品を設計・開発していきます。

スマートフォン、デジタルカメラ、SSD、自動車、医療機器など、あらゆるアプリケーションに使用されるメモリ製品の設計・開発を担っています。
フロントエンドからバックエンドまで幅広い設計業務を担当しており、最先端技術による高機能および高性能メモリ製品のスピーディな設計・開発を実現しています。
また、最先端の微細加工をOPC(Optical Proximity Correction)等の超解像技術にて実現し、あらゆるニーズに対応したフォトマスクデータ生成のソリューションを提供しています。

業務内容

  • アナログ回路設計

    • コンセプト設計
    • 回路設計
    • 回路検証(回路シミュレーション)
  • 論理回路設計

    • アーキテクチャ検討
    • RTL設計
    • 論理検証(論理シミュレーション)
    • 論理合成
  • レイアウト設計

    • フロアプラン
    • ブロック設計
    • 配置・配線
    • レイアウト検証(DRC/LVS)
  • EDAツール開発及び設計支援

    • 設計技術支援
    • 設計自動化推進
  • Kerf(Scribe)設計/素子評価

    • TEG(Test Element Group)設計
    • リソグラフィマーク設計
    • 素子特性評価・検証
  • リソグラフィー開発

    • マスクデータ作成用システム開発
    • OPCシステム開発
    • 大規模計算システムの利用技術開発
  • 業務内容イメージ
  • ArF(フッ化アルゴン193nm)照明の限界を超えた露光を実現するOPC技術